EV集團（EVG，岱美儀器供應商）是面向MEMS，納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的領仙供應商，今天宣布已收到東京大學的EVG810LT等離子活化訂單化合物半導體研究系統(tǒng)。EVG810LT安裝在大學的Takagi＆Takenaka實驗室，增強了實驗室的研究重點，該研究致力于使用絕緣體III-V（III-V-OI）和絕緣體鍺開發(fā)新穎的MOSFET和電子光子集成電路（EPIC） （GeOI）基板。這些先進的材料襯底旨在超越常規(guī)硅半導體和硅光子學的性能，在這些襯底中，III-V類材料（如磷化銦（InP），砷化銦鎵（InGaAs）和鍺結合到硅晶片上。EVG810LT使用等離子活化晶片表面以進行低溫直接晶片鍵合，并已被其他客戶用于絕緣體上硅（SOI）晶片和背面照明CMOS圖像傳感器的大批量生產(chǎn)。
高木大學副教授Mitsuru Takenaka博士說：“半導體器件的小型化已達到其物理極限，并且根據(jù)摩爾定律的縮小晶體管（縮放比例）不足以滿足未來對LSI器件更高性能的需求。”和東京大學竹中實驗室。“在摩爾定律結束后，具有將III-V化合物半導體或鍺自由堆疊在硅半導體上的3D集成電路有望成為提高LSI性能的突破之一。為了支持我們的努力，我們采用了EV Group的等離子活化技術EVG810LT系統(tǒng)可幫助我們實現(xiàn)更低的溫度和高質量的晶圓鍵合。”
EV Group Japan KK的代表董事山本博（Hiroshi Yamamoto）在評論今天的宣布時說：“我們?yōu)橹С謻|京大學最仙進的LSI器件研究而選擇我們的系統(tǒng)非常榮幸。The Takagi＆Takenaka的創(chuàng)新成果預計實驗室將解決半導體行業(yè)當前面臨的基本問題，基于我們公司“發(fā)明，創(chuàng)新和實施”的Triple-i理念，EV集團一直與活躍于先進領域的大學和研發(fā)機構合作。將繼續(xù)為高木和竹中實驗室提供成功進行前沿研究所需的技術支持。
物聯(lián)網(wǎng)（IoT），大數(shù)據(jù)和人工智能（AI）的出現(xiàn)推動了對功耗更低，性能更高且功能更強大的電子設備的新一波需求。為了滿足這一需求，半導體行業(yè)正在評估將新材料與超越純硅基晶片的硅結合起來的好處。這一轉變?yōu)榛衔锇雽w的未來市場增長以及更有效的制造技術實現(xiàn)最大終端設備性能鋪平了道路。例如，金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）工藝（其中通過異質外延生長在基板上沉積II-VI或III-V材料的薄膜）會導致不一致的晶圓形成。這損害了晶片表面的完整性，并最終影響了終端設備的性能。具有等離子活化的直接晶圓鍵合是一種有前途的解決方案，能夠實現(xiàn)不同材料的異質集成并實現(xiàn)高質量的工程襯底。
EVG將在12月13日至15日在日本東京的東京Bit Sight-東京國際展覽中心舉行的SEMICON Japan展覽會上展示EVG810LT系統(tǒng)等離子活化系統(tǒng)。有興趣了解有關EVG光刻和晶圓鍵合解決方案套件更多信息的與會人員將參觀公司的5238號展位。
東京大學成立于1877年，是日本第一所國立大學。東京大學是一所領仙的研究型大學，基本上提供本科和研究生級別的所有學科的課程，并在整個學術活動中進行研究。該大學旨在為學生提供豐富多樣的學術環(huán)境，以確保他們既有智力發(fā)展機會，又有專業(yè)知識和技能的學習機會。
EV Group（EVG）是制造半導體，微機電系統(tǒng)（MEMS），化合物半導體，功率器件和納米技術器件的設備和工藝解決方案的領仙供應商。是岱美儀器的主要供應商。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合，薄晶圓處理，光刻/納米壓印光刻（NIL）和計量設備，以及光刻膠涂布機，清潔劑和檢查系統(tǒng)。EV Group成立于1980年，為精致的客戶和合作伙伴提供服務并提供支持。
